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높은 압력 Photoreactor

높은 압력 Photoreactor

광화학 반응의 심도 있는 연구, 광화학 반응의 닫힌된 형식에 높은 압력 점점 고객의 대부분에 의해 선호는

Product Details

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높은 압력 광화학 반응 장치

광화학 반응의 심도 있는 연구, 광화학 반응의 닫힌된 형식에 높은 압력 점점 고객의 대부분에 의해 선호는, 장치는 주로 구성 된 다양 한 광원 장치, 스테인리스 반응 배, PTFE 세트, 압력 석 영 유리, 필터, 자석 교 반 장치, 카메라 obscura, 압력 공기 파이프라인 보호 반응, 일정 온도 순환 장치 등... 디자인 메인 광화학, 광 촉매, 라이트 저하, 유기 화학, 위상, 가스-액체 단계 반응 가스의 고체-액체 단계, 가스 위상 반응에도 사용할 수 있습니다, 전체 반응 가스와 소재, 2.0MPA의 최대 전압을 실현할 수 있습니다, 또한 수 더 고압 반응 기, 가스 크로마 토 그래프와 온라인 검색을 사용자 지정. 이 시스템은 간단한 구조, 적당 한, 편리한 작업, 안정적인 동작, 인간, 무료 조합 보호, 유연한 변화 등 독특한 장점, 장비 실시간 수 있습니다. (theTOPTION 공장 독점 데이터 어떤 국내 제조자 사용을 허가 하지 않았다, 표 절은 설명, 지적 재산권을 존중 하시기 바랍니다)

기술 데이터:

높은 압력 광화학 반응 장치


모델

TPR HP150

TPR HP300

TPR HP500

TPR HP1000

광원 형식

제 논/수은 램프

제 논/수은 램프

제 논/수은 램프

제 논/수은 램프

광원 전원

500W

500W

1000W

1500W

광원 수명

1000 H

1000 H

1000 H

1000 H

방사선 특성

포인트 소스

포인트 소스

포인트 소스

포인트 소스

방사선 조사 직경

80 M M

80 M M

80 M M

100 M M

냉각 시스템

3 강한 라디에이터

3 강한 라디에이터

3 강한 라디에이터

3 강한 라디에이터

압력 빛 창

Intron

Intron

Intron

Intron

자석 교 반 장치

Intron

Intron

Intron

Intron

리프팅 플랫폼

Intron

Intron

Intron

Intron

주요 자료

반응 용기

스테인레스 스틸 316l

스테인레스 스틸 316l

스테인레스 스틸 316l

스테인레스 스틸 316l

단일 부식 PTFE

내부 용량

150 ML

300 ML

500 ML

1000 ML

자 켓 타입 부식 방지

PTFE 내부 용량 (옵션)

150 ML

300 ML

500 ML

1000 ML

디자인 압력 (선택 사항)

2 K G/5 K G/10 K G/20 K G

2 K G/5 K G/10 K G/20 K G

2 K G/5 K G/10 K G/20 K G

2 K G/5 K G/10 K G/20 K G

광화학 반응 기 / UV의 광화학 반응 기구 선택적 구성 요소:


구성 요소 이름

사양

높고 낮은 온도 Circulator

-120 ℃ ~ 300 ℃, 사용자 정의할 수 있습니다

압력 방출 가스 보호 장치

사용자 지정할 수 있습니다.

테일러 표준 체

사용자 지정할 수 있습니다.


TOPTION는 제조를 전문화 하 고 등등 드라이어, 추출 장치를 스프레이 광화학 유리 반응 기, UV 유리 반응 기 시스템, 제 논 유리 반응 기, 단일 레이어 유리 반응 기, 더블 레이어 유리 반응 기, 3 층 유리 반응 기, 온도 조절 장비, 아이스 메이커, 초음파 기기 판매.

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